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Se dispone del Laboratorio de Ingeniería Fotónica dividido en 11 áreas específicas que ocupan un total de 450 m2 En ellas se despliegan sus facilidades para la realización de los trabajos experimentales de demostración, fabricación y caracterización.
Equipamiento más relevante por áreas:
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I. Láseres ultravioleta (UV) y estaciones de trabajo |
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Se sitúan los láseres muy intensos ultravioleta( UV) para el procesado de materiales fotónicos y las estaciones de trabajo para realizar dispositivos en tecnología de fibra ópticos:
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I) Láser de argón doblado (Fred Innova- Coherent) de onda continua a 244nm y láser excímero pulsado Bragg Star de TUI (trabajando en 248nm) ambos para procesado mediante fotosensibilidad de fibras ópticas:
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II) Láser excímero muy intenso, Fibex de Lambda Physik (192nm) y estación de micromecanizado Variolas para procesado de materiales fotónicos:
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III) Láser multilanda (1062, 532, 355 y 266nm) de ND:YAG pulsado para el procesado e inscripción de estructuras fotónicas en fibras ópticas de plástico y en sus materiales constituyentes (en proceso de adquisición).
IV) Estación de fabricación de dispositivos basados en estrechamiento local de fibra
V) Estación de fabricación de dispositivos en tecnología de fibra (acopladores, multiplexores...).
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 Vista de estación TaNIF (controlada por ordenador) para la realización de estrechamientos en fibras ópticas y vista de fibra óptica estrechada |
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Comprende facilidades para montaje de circuitos ópticos en óptica de volumen. |
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Instalaciones 
